Autor der Publikation

Kopieren Löschen Diese Publikation zur Ablage hinzufügen
Community-Eintrag
Versionsverlauf dieses Eintrags
URL
DOI
BibTeX
EndNote
APA
Chicago
DIN 1505
Harvard
MSOffice XML

Application of automated design migration to alternating phase shift mask design.

F. Heng, L. Liebmann, und J. Lund. ISPD, Seite 38-43. ACM, (2001)

Bitte wählen Sie eine Person um die Publikation zuzuordnen

Um zwischen Personen mit demselben Namen zu unterscheiden, wird der akademische Grad und der Titel einer wichtigen Publikation angezeigt. Zudem lassen sich über den Button neben dem Namen einige der Person bereits zugeordnete Publikationen anzeigen.

Lars Gadermann University of Stuttgart

CodeCharts and AI as Alternatives to On-site Eyetracking for Vehicle Design EvaluationL. Gadermann, D. Holder, und T. Maier. HCI in Mobility, Transport and Automotive Systems, 15817, Springer, (Mai 2025)

CodeCharts and AI as Alternatives to On-site Eyetracking for Vehicle Design EvaluationL. Gadermann, D. Holder, und T. Maier. HCI in Mobility, Transport and Automotive Systems, 15817, Springer, (Mai 2025)Bridging Stakeholder Demands: The Role of Vehicle Design in the Development of external Human-Machine InterfacesL. Gadermann, D. Holder, und T. Maier. Stuttgarter Symposium für Produktentwicklung 2025, Seite 188-199. (2025)

Lars Klingel University of Stuttgart

Marvin Tigre Larschow University of Stuttgart

Lars Bippus University of Stuttgart

Dr. Lars Mautsch University of Stuttgart

Weitere Publikationen von Autoren mit dem selben Namen

Layout Decomposition and Legalization for Double-Patterning Technology.R. Ghaida, K. Agarwal, S. Nassif, X. Yuan, L. Liebmann, und P. Gupta. IEEE Trans. on CAD of Integrated Circuits and Systems, 32 (2): 202-215 (2013)A Designer's Guide to Subresolution Lithography: Enabling the Impossible to Get to the 14-nm Node [Tutorial].L. Liebmann, und J. Torres. IEEE Design & Test, 30 (3): 70-92 (2013)Application of automated design migration to alternating phase shift mask design.F. Heng, L. Liebmann, und J. Lund. ISPD, Seite 38-43. ACM, (2001)Pushing multiple patterning in sub-10nm: are we ready?D. Pan, L. Liebmann, B. Yu, X. Xu, und Y. Lin. DAC, Seite 197:1-197:6. ACM, (2015)CAD computation for manufacturability: can we save VLSI technology from itself?M. Lavin, und L. Liebmann. ICCAD, Seite 424-431. ACM / IEEE Computer Society, (2002)Coupling timing objectives with optical proximity correction for improved timing yield.S. Banerjee, K. Agarwal, S. Nassif, J. Culp, L. Liebmann, und M. Orshansky. ISQED, Seite 97-102. IEEE, (2011)TCAD development for lithography resolution enhancement.L. Liebmann, S. Mansfield, A. Wong, M. Lavin, W. Leipold, und T. Dunham. IBM Journal of Research and Development, 45 (5): 651-666 (2001)Rules vs tools: what's the right way to address IC manufacturing complexity?L. Scheffer, L. Liebmann, R. Rakojcic, und D. White. ISPD, Seite 75-76. ACM, (2007)A framework for double patterning-enabled design.R. Ghaida, K. Agarwal, S. Nassif, X. Yuan, L. Liebmann, und P. Gupta. ICCAD, Seite 14-20. IEEE Computer Society, (2011)Co-Optimization of Circuits, Layout and Lithography for Predictive Technology Scaling Beyond Gratings.T. Jhaveri, V. Rovner, L. Liebmann, L. Pileggi, A. Strojwas, und J. Hibbeler. IEEE Trans. on CAD of Integrated Circuits and Systems, 29 (4): 509-527 (2010)