Autor der Publikation

63-75 GHz F-Sub-T SiGe-Base Heterojunction Bipolar Technology

, , , , , , , , , und . Digest of Technical Papers : 1990 Symposium on VLSI Technology, Seite 49-50. Piscataway, New Jersey, IEEE, (1990)
DOI: 10.1109/VLSIT.1990.111002

Bitte wählen Sie eine Person um die Publikation zuzuordnen

Um zwischen Personen mit demselben Namen zu unterscheiden, wird der akademische Grad und der Titel einer wichtigen Publikation angezeigt. Zudem lassen sich über den Button neben dem Namen einige der Person bereits zugeordnete Publikationen anzeigen.

 

Weitere Publikationen von Autoren mit dem selben Namen

Siliconsgermanium-based mixed-signal technology for optimization of wired and wireless telecommunications.. IBM Journal of Research and Development, 44 (3): 391-408 (2000)Low-temperature Si and Si: Ge epitaxy by ultrahigh vacuum/chemical vapor deposition: Process fundamentals.. IBM Journal of Research and Development, 44 (1): 132-141 (2000)Advanced Bipolar Technology for the 1990s, , , , , , , , , und 2 andere Autor(en). 1991 International Symposium on VLSI Technology, Systems, and Applications : Proceedings of Technical Papers, Seite 269-273. Piscataway, New Jersey, IEEE, (1991)Profile Leverage in Self-Aligned Epitaxial Si Or SiGe Base Bipolar Transistors, , , , , , , , , und 6 andere Autor(en). Electron Devices Meeting, 1990 : IEDM '90 : Technical Digest : International, Seite 21-24. Piscataway, New Jersey, IEEE, (1990)63-75 GHz F-Sub-T SiGe-Base Heterojunction Bipolar Technology, , , , , , , , , und . Digest of Technical Papers : 1990 Symposium on VLSI Technology, Seite 49-50. Piscataway, New Jersey, IEEE, (1990)SiGe Heterojunction Bipolar Transistors, , , , , , und . (1990)Foundation of rf CMOS and SiGe BiCMOS technologies., , , , , , , , , und 12 andere Autor(en). IBM Journal of Research and Development, 47 (2-3): 101-138 (2003)Design automation methodology and rf/analog modeling for rf CMOS and SiGe BiCMOS technologies., , , , , , , , , und 8 andere Autor(en). IBM Journal of Research and Development, 47 (2-3): 139-176 (2003)Keynote speaker: Driving innovation in the "post-silicon" world.. SoCC, Seite 1-2. IEEE, (2012)Self-aligned bipolar epitaxial base n-p-n transistors by selective epitaxy emitter window (SEEW) technology, , , , , , , und . IEEE Transactions on Electron Devices, 38 (2): 378-385 (Februar 1991)