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Hot-carrier reliability in high-voltage lateral double-diffused MOS transistors.

V. Vescoli, J. Park, H. Enichlmair, M. Knaipp, G. Röhrer, R. Minixhofer, und M. Schrems. IET Circuits, Devices & Systems, 2 (3): 347-353 (2008)

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Sumee Park

Lukas Münch University of Stuttgart

Soo Yong Park University of Stuttgart

Tanja Munz-Körner University of Stuttgart

Dr. -Ing. Ralf Münzenmayer University of Stuttgart

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