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Disambiguierung von "Agarwal, Kanak B."

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A framework for double patterning-enabled design.

, , , , , und . ICCAD, Seite 14-20. IEEE Computer Society, (2011)

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Nivedita Agarwal

B. Schlecht

Max B. Schäfer

Johannes Valentin Bauer University of Stuttgart

Zero-waste prepreg production through the combination of automated fiber Placement and Online-Prepreg Technology: Tagungsband 6. Symposium Materialtechnik: 20. bis 21. Februar 2025, , , , , , , und . (Februar 2025)

Laura Balange University of Stuttgart

Point Clouds of the livMatS Biomimetic Shell at Various Stages of the Construction Process, , , , , und . Dataset, (2025)
 

Weitere Publikationen von Autoren mit dem selben Namen

O(n) layout-coloring for multiple-patterning lithography and conflict-removal using compaction., , , , , und . ICICDT, Seite 1-4. IEEE, (2012)Design driven patterning optimizations for low K1 lithography., und . ICICDT, Seite 1-4. IEEE, (2012)Layout Decomposition and Legalization for Double-Patterning Technology., , , , , und . IEEE Trans. on CAD of Integrated Circuits and Systems, 32 (2): 202-215 (2013)Design-aware lithography., , und . ISPD, Seite 3-8. ACM, (2012)Electrically-driven retargeting for nanoscale layouts., , und . CICC, Seite 1-4. IEEE, (2011)A methodology for propagating design tolerances to shape tolerances for use in manufacturing., , , , und . DATE, Seite 1273-1278. IEEE, (2010)SMATO: Simultaneous mask and target optimization for improving lithographic process window., , und . ICCAD, Seite 100-106. IEEE, (2010)A framework for double patterning-enabled design., , , , , und . ICCAD, Seite 14-20. IEEE Computer Society, (2011)Ground rule slack aware tolerance-driven optical proximity correction for local metal interconnects., , und . CICC, Seite 1-4. IEEE, (2010)Coupling timing objectives with optical proximity correction for improved timing yield., , , , , und . ISQED, Seite 97-102. IEEE, (2011)