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Gate-Stack Engineered NBTI Improvements in Highvoltage Logic-For-Memory High-ĸ/Metal Gate Devices.

B. O'Sullivan, R. Ritzenthaler, G. Rzepa, Z. Wu, E. Litta, O. Richard, T. Conard, V. Machkaoutsan, P. Fazan, C. Kim, J. Franco, B. Kaczer, T. Grasser, A. Spessot, D. Linten, und N. Horiguchi. IRPS, Seite 1-8. IEEE, (2019)

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Hanchuan Wu University of Stuttgart

Yongxiang Wu University of Stuttgart

Tim Würtele University of Stuttgart

Amelie Wührl University of Stuttgart

PD Dr. phil. Joachim Wündisch University of Stuttgart

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