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The study of compensative structure assisted convex and concave corner structures etching by inductively coupled plasma-reactive ion etch (ICP-RIE).

Y. Lin, Y. Cheng, N. Chu, W. Hsu, Y. Tang, P. Chen, C. Yang, M. Hsiao, und C. Hsiao. NEMS, Seite 491-493. IEEE, (2015)

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