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Doppler: DPL-aware and OPC-friendly gridless detailed routing with mask density balancing., , , und . ICCAD, Seite 283-289. IEEE Computer Society, (2011)Modeling of Layout Aware Line-Edge Roughness and Poly Optimization for Leakage Minimization., und . IEEE J. Emerg. Sel. Topics Circuits Syst., 1 (2): 150-159 (2011)Dealing with IC manufacturability in extreme scaling (Embedded tutorial paper)., , , , , , , und . ICCAD, Seite 240-242. ACM, (2012)Compact modeling and robust layout optimization for contacts in deep sub-wavelength lithography., und . DAC, Seite 408-411. ACM, (2010)ELIAD: efficient lithography aware detailed router with compact post-OPC printability prediction., , , und . DAC, Seite 504-509. ACM, (2008)ELIAD: Efficient Lithography Aware Detailed Routing Algorithm With Compact and Macro Post-OPC Printability Prediction., , , und . IEEE Trans. on CAD of Integrated Circuits and Systems, 28 (7): 1006-1016 (2009)Standard Cell Layout Regularity and Pin Access Optimization Considering Middle-of-Line., , , , und . ACM Great Lakes Symposium on VLSI, Seite 289-294. ACM, (2015)Layout aware line-edge roughness modeling and poly optimization for leakage minimization., und . DAC, Seite 447-452. ACM, (2011)Flexible 2D layout decomposition framework for spacer-type double pattering lithography., , und . DAC, Seite 789-794. ACM, (2011)Total sensitivity based dfm optimization of standard library cells., , und . ISPD, Seite 113-120. ACM, (2010)