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Transistor reliability characterization and modeling of the 22FFL FinFET technology.

C. Su, M. Armstrong, L. Jiang, S. Kumar, C. Landon, S. Liu, I. Meric, K. Park, L. Paulson, K. Phoa, B. Sell, J. Standfest, K. Sutaria, J. Wan, D. Young, und S. Ramey. IRPS, Seite 6. IEEE, (2018)

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M. Nudischer

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M. Liewald

M. Fittingho

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