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Layout Decomposition with Pairwise Coloring and Adaptive Multi-Start for Triple Patterning Lithography.

Y. Zhang, W. Luk, Y. Yang, H. Zhou, C. Yan, D. Pan, und X. Zeng. ACM Trans. Design Autom. Electr. Syst., 21 (1): 2:1-2:25 (2015)

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