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Oxide Semiconductor Thin-Film Transistors Using Oxygen Barriers and a Wet-Chemical Back-Channel Etch Step

M. Herrmann, und N. Fruehauf. Proceedings of the SID 2014, Paper Number 33.4, (2014)

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Justin Herrmann University of Stuttgart

Marcus Jenke

Dominik Herrmann

Dr. phil. Marcus Stiebing University of Stuttgart

Dr. -Ing. Florian Herrmann University of Stuttgart

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