Abstract
Die selektive und haftfeste Metallisierung von Hochleistungsthermoplasten wie beispielsweise PPS oder PEEK für mechatronische Systeme und Mikrosysteme in z.B. Medizintechnik, Lebensmitteltechnologie und chemischer Prozesstechnik stellt nach wie vor eine Herausforderung dar. Im Beitrag wird daher ein neues Verfahren zur Herstellung von Molded Interconnected Devices (MID) aus Hochleistungsthermoplasten mit feinen Leiterstrukturen vorgestellt. Dabei wird in einem ersten Schritt auf einer dünnen Trägerfolie aus Kupfer eine Hotmelt-Maske mittels Inkjet-Verfahren gedruckt. Anschließend erfolgt die galvanische Abscheidung eines Schichtstapels aus Gold, Nickel und Kupfer. Nach Strippen der Hotmelt-Maske wird die vorbereitete Trägerfolie mit einem Hochleistungsthermoplasten hinterspritzt. Abschließend erfolgt die Entfernung der Trägerfolie in einem Ätzprozess.
Users
Please
log in to take part in the discussion (add own reviews or comments).