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Selective Route to Stable Silicon-Boron Radicals and Their Corresponding Cations

M. Nazish, C. Legendre, S. Sarkar, J. Lücken, D. Goffitzer, M. Diefenbach, B. Schwederski, R. Herbst-Irmer, D. Stalke, M. Holthausen, W. Kaim, und H. Roesky. Inorganic chemistry, 60 (14): 10100-10104 (2021)
DOI: 10.1021/acs.inorgchem.1c01438

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C. Traut

C. Honold

Max Schäfer University of Stuttgart

Dr. -Ing. Max Hoßfeld University of Stuttgart

Max Mustermann Universität Stuttgart

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